光密度檢測在真空鍍膜技術中的應用

真空鍍膜實質上是在高真空狀態(tài)下利用物理方法在鍍件的表面上鍍上一層薄膜的技術，它是一種物理現(xiàn)象。是置待鍍材料和被鍍基板于真空室內，采用一定方法加熱待鍍材料，使之蒸發(fā)或升華，并飛行濺射到被鍍基板表面凝聚成膜的工藝；真空鍍膜按其方式不同可分為真空蒸發(fā)鍍膜、真空濺射鍍膜和現(xiàn)代發(fā)展起來的離子鍍膜。真空鍍膜在生產(chǎn)過程中鍍膜厚度的均勻性能反應出鍍膜產(chǎn)品品質，真空鍍膜在線檢測如今市場上已有專業(yè)的檢測儀器---光密度在線檢測儀。
一些光學零件的光學表面需要用物理方法或化學方法鍍上一層或多層薄膜，使得光線經(jīng)過該表面的反射光特性或透射性特性發(fā)生變化，許多機械加工所采用的刀具表面也需要沉積一層致密的、結合牢固的超硬鍍層而使其得以硬化，延長其使用壽命，提高切削效率，從而改善被加工部件的精度和光潔度。目前，作為物理鍍膜方法的真空鍍膜，尤其是納米級超薄膜制作技術，已廣泛地應用在電真空、無線電、光學、原子學、空間技術等領域及我們的生活中。

真空鍍膜其中有一種光密度法，光密度（OD）定義為材料遮光能力的表征；它用透光鏡測量。光密度沒有量綱單位，是一個對數(shù)值，通常僅對鍍鋁薄膜和珠光膜進行光密度測量。光密度和透光率成一定的反比關系，可以用公式來表示：OD=log10（入射光/透射光）或OD=log10（1/透光率）。即光密度是入射光與透射光比值的對數(shù)或者說是光線透過率倒數(shù)的對數(shù)。
通常鍍鋁膜的光密度值為1－3（即光線透過率為10%－0.1%），數(shù)值越大鍍鋁層越厚，美國國家標準局的ANSI/NAPM IT2.19對試驗條件做了詳細規(guī)定。
OD是optical density（光密度）的縮寫，表示被檢測物吸收掉的光密度，是檢測方法里出現(xiàn)的專有名詞。一般人理解較困難，具體檢測涉及到很多物理等方面知識。你只須知道是陰性即可光通過被檢測物，前后的能量差異即是被檢測物吸收掉的能量，特定波長下，同一種被檢測物的濃度與被吸收的能量成定量關系。檢測單位用OD值表示，OD=1og（1/trans），其中trans為檢測物的透光率值。